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薄膜生長(cháng)速率測試儀，采用無(wú)損的激光技術(shù)實(shí)時(shí)原位檢測薄膜沉積速率、薄膜厚度以及光學(xué)常量（n&k），可廣泛的應用于金屬有機化學(xué)氣象沉積MOCVD、分子束外延MBE、濺射系統Sputtering和蒸發(fā)系統等薄膜沉積過(guò)程的實(shí)時(shí)原位監控。