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石墨烯制備系統(CVD)主要用于合成石墨烯薄膜和各種碳納米材料,有一個(gè)水平石英管式爐。一個(gè)催化劑襯底(通常是銅鋁箔)放置在爐里,甲烷氣體或乙炔氣體從外部低流量和低壓地注入,在催化劑的襯托上形成石墨烯薄膜。
更新時(shí)間:2024-07-04
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