納米壓印系統是微納結構制備的主要設備，需兼具熱壓印和紫外壓印兩種功能，而且可以快速的實(shí)現真空環(huán)境下的壓印，可以處理各種不同形狀、滿(mǎn)足處理直徑約10mm的模版和基片，實(shí)現大面積、性能穩定超表面光學(xué)元件生產(chǎn)，并在國際上優(yōu)先探索并實(shí)現空間工程化應用,進(jìn)而提高應衛星激光通信終端小型化、輕量化水平，大幅度降低激光通信終端光學(xué)系統的光學(xué)鏡片及組件的尺寸，是今后激光通信終端的小型化和輕量化取得重大突破的關(guān)鍵技術(shù)之一。
納米壓印技術(shù)工藝：模板制造、壓印過(guò)程(包括模板處理、加壓、脫模過(guò)程)及圖形轉移過(guò)程。納米壓印精度和模板的精度直接相關(guān)；光刻膠材料影響著(zhù)熱壓溫度和曝光時(shí)間；壓印過(guò)程中模板與壓印材料之間的對準、平行度、壓力均勻性、溫度均勻性、脫模技術(shù)等都會(huì )影響最終的產(chǎn)品質(zhì)量。在壓印后精細結構檢測方面，一般需要檢測的項目包括：線(xiàn)寬、深度、缺陷、膜厚、粗糙度、翹曲度等，主要用到AFM、SEM、臺階儀、輪廓儀等設備。
納米壓印較傳統光刻技術(shù)可在采用較低成本的條件下大批量制備具有超高精度的圖形，同時(shí)也具有良好的均勻性和可重復性，此外可以傳統光刻工藝有很大程度的兼容性。納米壓印除了在集成電路領(lǐng)域有著(zhù)非常廣闊的應用前景，同時(shí)在光學(xué)領(lǐng)域納米壓印可用來(lái)制備周期小于光學(xué)波長(cháng)的亞波長(cháng)光柵。
