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          Nat. Mater.:數據驅動(dòng)的金屬非晶態(tài)形成能力通用指標的發(fā)現

           更新時(shí)間:2023-06-08 點(diǎn)擊量:427

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          主要內容

          此篇文章中,中國科學(xué)院物理研究所和美國耶魯大學(xué)的研究人員開(kāi)展合作研究,研究團隊在前期工作的基礎上,打通了非晶合金高通量實(shí)驗和實(shí)驗數據自動(dòng)分析的關(guān)鍵環(huán)節,實(shí)現了非晶合金新材料的高通量、流程化研發(fā)?;谠撗邪l(fā)模式,團隊采集分析了5700余種合金的X射線(xiàn)衍射(XRD)圖譜,發(fā)現XRD第一峰的峰寬(Δq)在同一合金體系內隨成分的改變呈規律性變化,合金的非晶形成能力與Δq有明顯關(guān)聯(lián),寬的Δq對應強的非晶形成能力。利用Δq和GFA的關(guān)聯(lián)(Δq-GFA判據),該團隊在以往未被報道的Zr-Cu-Cr和Ir-Co-Ta合金體系中發(fā)現了非晶形成能力強、能夠形成塊體的非晶合金新材料,證明Δq-GFA判據是指導非晶合金新材料高效研發(fā)的有利工具。

          該研究成果不僅為探索非晶合金新材料提供了便捷、實(shí)用、高效的新判據,可大幅提高研發(fā)非晶合金新材料的效率(和傳統的“試錯法"相比,效率提高200多倍;和以往的高通量實(shí)驗方法相比,效率提高100倍),而且改變了傳統認為的特定團簇出現越多非晶形成能力越強的研究結論,為認識非晶形成機理給出了新的方向。

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          其中由巨力光電代理的 kSA MOS UltraScan離線(xiàn)薄膜應力測量系統 為該研究提供了精確的曲率和薄膜殘余應力的測量

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          產(chǎn)品推薦

          kSA MOS UltraScan 離線(xiàn)薄膜應力測量系統 采用非接觸 MOS(多光束光學(xué)傳感) 激光技術(shù);不但可以對薄膜的應力、表面曲率和翹曲進(jìn)行準確的測量,還可二維應力 Mapping成像統計分析;同時(shí)準確測量應力、曲率隨溫度變化的關(guān)系。


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          文獻信息

          Data-driven discovery of a universal indicator for metallic glass forming ability

          Ming-Xing Li, Yi-Tao Sun, Chao Wang, Li-Wei Hu, Sungwoo Sohn, Jan Schroers, Wei-Hua Wang & Yan-Hui Liu